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CVD Chemical Vapor Deposition CVD真空氣相鍍膜
真空氣相沉積材料

       CVD真空氣相沉積工藝所使用的是一種保護性長鏈性高分子材料(中文名：派瑞林、聚對二甲苯、英文名：Parylene)，它可在真空下氣相沉積，活性分子的良好穿透力能在元件內部、底部，周圍形成無針孔，並厚度均勻的透明絕緣塗層，給元件提供了一個完整的優質防護塗層，抵禦酸堿、鹽霧、黴菌及各種腐蝕性氣件的侵害，因為所使用的不是液體，所以塗敷過程中不會聚集，橋接式形成彎月面。

      Parylene派瑞林高分子材料根據分子結構可分為： N、C、 D、F、HT等多種 類型。我們可根據客戶技術要求與產品提供CVD真空氣相沉積工藝所需的派瑞林粉體與原料，並給於專業的技術指導。

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派瑞林牌號

成膜特性

CAT

N粉

CAT

C粉

CAT

D粉

CAT

F(VT4)粉

CAT

AF4(HT)粉

密度（gm/cc)

1.1

1.3

1.41

1.55

1.5

介電常數（1Mhz)

2.6

2.9

2.8

2.3

2.2

介電強度（V/Mil)

7000

5600

5500

5000

7000

最低持續工作溫度(空氣中）

-60°C

-60°C

-60°C

-60°C

-60°C

最高持續工作溫度(空氣中）

60°C

80°C

110°C

200°C

300°C

摩擦係數-動態

0.25

0.29

0.38

0.39

0.16

線性膨脹係數(ppm at 25°C)

69

35

38

45

34

吸水性（24H後）

<% 0.1

<% 0.1

<% 0.1

<% 0.1

<% 0.1

水蒸氣透過率(gm.mm)/m2.day)

0.6

0.08-0.1

0.1

0.25-0.32

0.2

氧氣穿透率(cc.mm)/(m2.day.atm)

16

3

12.0-13.5

16.8

25.3